Scientific journal
Advances in current natural sciences
ISSN 1681-7494
"Перечень" ВАК
ИФ РИНЦ = 0,775

Sergeeva E.A.

В последние годы наметились важные изменения в производстве волокон и волокнистых материалов на их основе, которые существенно расширяют возможности получении тканей как технического, так и бытового назначения. Необходимость развития отраслей текстильной и легкой промышленности требует расширения ассортимента, снижения себестоимости выпускаемых нитей и тканей, придания им особых свойств.

Неравновесная низкотемпературная плазма (ННТП) позволяет регулировать заданные свойства волокнистых материалов без деструкции. В связи с этим интерес представляет изучение воздействия ННТП на ткани технического назначения, в том числе на основе синтетических и натуральных нитей.

В качестве объектов исследования были выбраны образцы технических тканей: Чефер с 100 %-ым содержанием хлопчатобумажной (х/б) нити, и ЧЛХ на основе полиэфирной нити - 49 % и х/б нити - 51 %. Кордная ткань Чефер используется в шинной промышленности, следовательно, необходимым является улучшение адгезии данной технической ткани к резине. Прокладочной ткани ЧЛХ, применяемой в производстве резино-технических изделий, напротив, следует придать антиадгезионные свойства.

Обработка образцов тканей производилась на высокочастотной плазменной установке емкостного разряда. Результат воздействия ННТП на исследуемые свойства образцов тканей оценивался с помощью метода определения капиллярности в соответствии с ГОСТ 3816-81.

Экспериментальные данные свидетельствуют, что воздействие ННТП в различных плазмообразующих газах модифицирует поверхность образцов тканей. Капиллярность и смачиваемость водой образцов ткани Чефер после модификации в среде аргона возрастает от 0,0 до 130,0 мм. Капиллярность ткани ЧЛХ после обработки в среде аргон-пропан-бутан снижается в 3 раза, следовательно, происходит усиление антиадгезионных свойств.

Таким образом, обработка технических тканей ННТП позволяет варьировать значения гидрофильных характеристик, изменяя плазмообразующие среды и входные параметры плазменной установки.